4 machines

Machines pour Sécheurs UV

E4C

E4C est le produit de la gamme GEW offrant le plus de puissance, afin de supporter les applications de séchage UV les plus exigeantes et les vitesses d’impression les plus rapides sur les machines rotative

E4C

E4C est le produit de la gamme GEW offrant le plus de puissance, afin de supporter les applications de séchage UV les plus exigeantes et les vitesses d’impression les plus rapides sur les machines rotative

E4C est le produit de la gamme GEW offrant le plus de puissance, afin de supporter les applications de séchage UV les plus exigeantes et les vitesses d’impression les plus rapides sur les machines rotatives ou à feuilles. Il résiste aux procédures de test de séchage les plus difficiles et convient aux applications à faible migration.

E4C inclut des réflecteurs réglés optiquement pour optimiser la puissance de séchage et fonctionne silencieusement, avec des exigences minimales en matière d’air. Un régulateur hydraulique intégré garantit une circulation d’eau à tout moment, et les réflecteurs refroidis à l’air de E4C supportent la puissance UV la plus élevée, tout en limitant le transfert thermique vers le substrat, ce qui le rend sûr d’utilisation pour une large gamme de matériaux sensibles à la chaleur.

Il est conçu pour fonctionner avec le niveau de maintenance le plus bas et pour changer les lampes rapidement et facilement. Tous les composants remplaçables sont « plug-and-play », et les réflecteurs peuvent être nettoyés et entièrement remplacés sans rompre les joints d’étanchéité. Par ailleurs, les mécanismes et les joints des réflecteurs sont testés avec des millions d’opérations afin de garantir leur fiabilité.

E4C est également prêt pour le fonctionnement LED : son logement de lampe hybride peut abriter des logements de lampe à arc LED, E2C ou E4C. Son profil est compact pour convenir la plus large gamme de machines et peut s’adapter à toutes les installations E2C.

Il est également disponible avec une surveillance UV à points multiples et des options de séchage à gaz inerte.

NUVA2

Entièrement refroidi à l’air jusqu’à 250 cm, le système NUVA2 offre un séchage UV pour les applications de revêtement de substrat large et industrielles spécialisées.

NUVA2

Entièrement refroidi à l’air jusqu’à 250 cm, le système NUVA2 offre un séchage UV pour les applications de revêtement de substrat large et industrielles spécialisées.

NUVA2 est le système de séchage UV le plus efficace pour les applications de revêtement en laize large et industrielles spécialisées. Entièrement refroidi à l’air jusqu’à 250 cm et disponible avec une puissance de lampe totale allant jusqu’à 27 kW, le NUVA2 est disponible avec une large gamme d’options de personnalisation et d’intégration.

Les réflecteurs brevetés activement refroidis à l’air de GEW permet de s’assurer que le transfert de chaleur vers les substrats est minimal tout en offrant la meilleure intensité et dose UV disponibles. La conception à changement rapide du cassette garantit un changement rapide des lampes avec seulement une clé hexagonale et les extrémités de lampes sphériques innovantes empêchent la casse lors des changements de lampes longues.

La fiabilité est garantie et en cas d’utilisation du système RHINO de GEW, comme le NUVA2 est disponible avec une garantie de 5 ans, il n’y a aucun coût de maintenance imprévu au-delà de la période d’investissement.

NUVA2 supporte le système ArcLED afin de pouvoir utiliser un cassette NUVA2 et LeoLED indifféremment dans la même unité d’impression, et les systèmes NUVA2 existants peuvent être mis à niveau de façon rentable uniquement à l’aide du cassette LED et du refroidisseur requis.